.이혼소송 자이스는 올해 하반기 국내 반도체 제조사에서 극자외선(EUV) 포토마스크 검사장비 '에임즈(AIMS) EUV 3.0'가 양산라인에 도입된다고 8일 밝혔다. 포토마스크는 노광공정에서 집적회로 패턴을 실리콘 웨이퍼에 전달하는 부품이다. 반도체 미세화에 따라 포토마스크 결함 검증의 중요성은 더욱 커지고 있다. 에임즈는 자이스가 2017년 출시한 장비로 포토마스크의 인쇄 성능을 평가하고 노광 이미징 특성을 재현하는 검사를 지원한다. 에임즈 EUV 3.0은 1.0 대비 포토마스크 처리 성능이 약 3배 향상됐으며 차세대 하이-NA EUV 노광장비와도 호환된다. 클레멘스 노이엔한 자이스 글로벌 포토마스크 사업부 총괄은 “에임즈 EUV 3.0은 마스크 결함을 신속하게 확인하고, 미세 패터닝 과정에서 발생할 수 있는 잠재적 문제를 조기 검증·수정할 수 있는 솔루션”이라며 “기술력과 장비 안정성을 높여 고객에게 더 높은 가치를 제공하겠다”고 말했다.